EUV光刻機攪局者改變芯片格局！

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5 nm和2 nm：極紫外光刻將會改變整個晶片的結構

毋庸置疑，光刻工藝在整個世界的晶片生産中占有重要地位。這種新的制程方法，不但可以被許多不同的晶片工廠所使用，也是許多高級制程的重要組成部分。但是，光刻是微影制程中不可或缺的一項關鍵裝置，其重要程度是無法被誇大的。光刻工藝因其高門檻、高研發難度和複雜的供應鏈等因素，成爲目前最貴的集成電路制造裝備。

在很長一段時間裏，世界光刻技術的發展都被一些廠商所把持。荷蘭 ASML公司在7 nm及更低制程制程制程上擁有絕對的絕對優勢，主要集中在 EUV光刻制程上。但是，這樣的情況也許會有很大的變化。日本佳能近日宣稱，他們的奈米印刷機FPA-1200NZ2C，將在年內開始批量生産。這套裝置不但可以應用于5 nm制程，也可以在將來提升至2 nm制程，徹底避開極紫外光刻制程。

佳能公司的這一突破性進展，預示著光刻行業的競爭將會更加激烈，同時也將會改變整個世界晶片生産的版圖。佳能公司生産的奈米印刷設備比普通 EUV光刻設備便宜，而且能源效率更高。據悉，其制造費用只相當于極紫外光刻機的10%，而能源消耗只有 EUV光刻的10%。此外，在使用奈米壓印技術時，附屬裝置的費用亦較 EUV光刻裝置降低約40%。這樣的優點，使得佳能公司的奈米印刷機具有了更大的競爭能力。

佳能公司的奈米印刷工藝確實不是一夜之間完成的。目前，國際上對納米印刷的研究與使用已有相當的進展。相對于常規光刻，納米印刷在精度、制造成本等方面有著巨大的優勢。而佳能公司則一直致力于該行業的研究與開發，並在此基礎上進行了大量的研究與開發。在與 SK Hynix公司的密切配合下，佳能公司已經成功地開發出 NIL型記憶體晶片，並且在持續的工藝改善下，産品的品質及適用領域也在逐漸提升。

值得一提的是，佳能公司的奈米印刷裝置除了擁有價格上的優勢外，更擁有獨一無二的創意科技。比如，這台設備采用了先進的奈米印刷工藝，無需極紫外燈即可制造出高精度的晶片。這樣既可以減少制造成本，又可以避開極紫外光刻工藝中存在的光源老化及後期維修等難題。同時，利用該方法可以有效地提升制程效率與制程品質。

在將來，佳能公司的奈米印刷工藝將會給晶片生産帶來一場革命。在此基礎上，該工藝將逐漸替代常規極紫外光刻工藝，並逐漸發展爲集成電路的核心工藝。與此同時，5 G和人工智能等新興技術的迅猛發展，使得世界範圍內對高性能集成電路的需求量急劇增加。佳能公司的奈米印刷工藝，將會極大地促進世界晶片産業的蓬勃發展，並將會徹底改寫整個晶片産業的版圖。

總的來說，佳能公司FPA-1200NZ2C系列的批量生産爲光刻行業帶來了巨大的變化。這種新的工藝將會帶來晶片生産領域的變革，也會對整個世界的晶片産業産生深遠的影響。可以預見，在今後的日子裏，該方法將得到更多的推廣與改進，爲科學與社會發展提供更多的意外與機會。