如果說芯片是數字經濟的皇冠，那麽光刻機就是皇冠上明珠！

光刻機是生産芯片不可或缺的設備，以光爲刀，精度極高，制造難度遠遠超過了當年制造的原子彈！全球能生産高端極紫外光刻機的只有荷蘭光刻機制造商ASML，而在中高端DUV光刻機市場，ASML也有著高達80%市場的絕對領先優勢，所以這些年ASML一直是台積電、三星、英特爾頂級芯片企業的座上賓。

ASML最新的High-NA EUV光刻機，被業內專家稱爲是推動硅芯片進入到了“最後一戰”的關鍵技術之一，精度、效率得到了極大的提升，不僅能滿足2nm芯片的制造，而且物理極限之前的其他節點同樣適用。所以對于芯片廠來說，想要在行業內保持領先地位，甚至逆勢翻盤，采購ASML的High-NA光刻機是不可或缺的一環。

ASML首批2nm光刻機交付英特爾

作爲先進工藝的嘗鮮者，甚至浸潤式光刻機共同開發者，台積電本應率先獲得High-NA光刻機的供貨權。單去年12月，ASML率先將首批光刻機交付給了英特爾，基辛格也表示，該設備會被用于1.8nm以下的挑戰。其他主流芯片廠雖然也訂購了這款機器，但由于組裝、運輸、安裝需要長達6個月之久，英特爾從硬件層面來說要領先競爭對手半年的時間。

之所以優先交付英特爾，除了産能有限之外，還有一個重要原因，英特爾才是老美的“親兒子”，台積電、三星只能稱得上“陪跑”。如今時隔半年， High-NA光刻機也要迎來新客戶，但此時台積電卻打起了退堂鼓！

台積電：我不要了

近期台積電高級副總裁張曉強突然發聲，表示台積電不需要使用ASML的High-NA EUV光刻機，現有的EUV光刻機可以應對新的工藝。爲什麽不要了？不想當“大冤種”？

首先，芯片工藝、性能是可以通過技術來彌補，比如台積電的A16芯片技術節點，業內普遍認爲，這是先進的1.6nm芯片制造工藝。1nm是物理極限，1.6nm技術在過硬的技術下，很可能會撐到硅芯片時代的“最後一戰”。

其次，當芯片進入4nm、3nm時代，每進步1nm技術複雜性、成本都會大幅提升，雖然性能有所提升，而先進工藝中的量子隧穿效應、熱噪聲、電子遷移等現象會導致功耗增加、可靠性降低等問題，這種局面與消費者對更高效能、更低功耗和更高可靠性的期待背道而馳。就像骁龍8gen3、蘋果A16一樣，當性能開始冗余， 4nm芯片用戶體驗絲毫不遜色。況且信息顯示，ASML的High-NA EUV光刻機每台耗資高達3.5億歐元，大約3.8億美元，相當于一台27.4億元，離譜到家了！

另外，是否采購ASML的光刻機，取決于這些設備會給企業帶來哪些經濟效益。如今中、美、歐、日等國家隊爲保證供應鏈的穩定性，都在強化自身供應鏈健全和穩定，某些西方國家對海外部分國家增加25%甚至50%的關稅，這種趨勢可能會進一步加劇全球芯片供應鏈的割裂，後續芯片行業的競爭日益加劇。台積電需要評估采購ASML 2nm光刻機所帶來的經濟效益。

如今人工智能浪潮席卷全球，英偉達AI芯片供不應求，英偉達的競爭對手AMD也是台積電的重要客戶，據悉台積電2.5D級CoWos封裝産能遠達不到市場需求，台積電暫停采購ASML 2nm光刻機，或許是爲了加大産能投入，提高生産效率，以應對當下市場對AI芯片旺盛的需求。

關于此事，大家怎麽看？