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摩爾定律已經走到盡頭的消息甚囂塵上，但英特爾並不認爲摩爾定律走向終點，未來還有更大的發展空間，集成電路可容納晶體管的數量還能繼續增長。
而這份自信的來源和ASML新一代NA EUV光刻機有關。這個美國芯片巨頭正式宣布，完成新一代光刻機組裝，明年投入使用。
光刻機是制造芯片的必備工具，使用光刻機對晶圓進行曝光，可以將設計好的芯片圖案通過掩膜版複刻在晶圓表面。後續再利用刻蝕機，離子注入機等設備完成芯片制造，一顆芯片就能落地了。說起來簡單，做起來就是難如登天了。
全球只有ASML一家公司能制造EUV光刻機，而且有價無市。在EUV光刻機的支持下，台積電，三星造成了7nm至3nm的高端芯片。然而EUV光刻機並非終點，下一代High NA EUV光刻機也來了。英特爾作爲首發客戶，已經完成組裝工作。
根據英特爾4月19日宣布的消息，其位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的工廠完成了全球首台High NA EUV光刻機的組裝工作，目前正進入光學系統校准階段。
和EUV光刻機相比，ASML新一代的NA EUV光刻機有何區別呢？價格方面，NA EUV的售價高達3.5億美元，折合人民幣超過25億元。舊款的EUV光刻機價格爲1.6億美元左右，折合人民幣11億元。
數值孔徑也從0.33提升到0.55，數值孔徑越大聚焦的光斑越小，刻劃的分辨率也就越高。換句話說，能夠在同樣的集成電路面積上，增加晶體管的密度，而且據英特爾表示，提升幅度可達到190%。
按照英特爾的計劃，完成組裝工作後，明年就能投入使用了。英特爾多年前就入局了芯片代工行業，和台積電，三星一樣，可幫助客戶完成高端芯片的制造。有了NA EUV光刻機的加持，英特爾的自信恐怕要膨脹了。
而英特爾代表的是美國最強的芯片制造工藝，英特爾崛起了，是不是意味著美國芯片制造業要翻盤了？看看美國這些年爲了芯片行業都忙活些什麽，一邊限制對手發展，另一邊邀請台積電，三星赴美建廠。
美國已經確定給台積電提供166億美元的資金支持，三星和英特爾多多少少也能獲得百億美元資金扶持。有這些資金，台積電在美國的投資額直接飙升至560億美元。
台積電、三星、英特爾這全球三大芯片制造商齊聚一堂，美國芯片制造業的確會迎來不小的提振，但能否翻盤重新回到巅峰，恐怕還不能過早下定論。
因爲芯片制造出來是拿來賣的，中國是全球最大的芯片消費市場，美國不准把高端芯片賣到中國，估計造出來的芯片也會砸在自己手裏。造的芯片越多，虧損越大，等美國回過頭來想做生意，就要看中國要不要芯片了。
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