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台積電，三星已經決定在2025年量産2nm芯片，這是人類在芯片工藝上的又一重磅探索。不過最終能否造出2nm芯片，最終還得看ASML最新一代的 High-NA EUV 光刻機。

ASML是全球最大的光刻機制造商，而光刻機又是芯片制造的必備工具。ASML已經展示了其最新款的 High-NA EUV 光刻機設備，重150噸，售價高達27億元！阿斯麥最新光刻機有多恐怖？

光刻機是一種用于微電子芯片制造的關鍵設備，主要用于將芯片設計圖案投影到硅片上，形成芯片上的微小結構。光刻機通過使用紫外光源和光學鏡頭來實現高分辨率的圖案轉移，是半導體工藝中至關重要的工具之一。

而ASML是全球領先的光刻機制造商，總部位于荷蘭。ASML的光刻機技術實力非常強大，其産品被廣泛應用于全球各大半導體制造廠商。

ASML的光刻機在技術水平、精度、穩定性等方面處于行業領先地位，並持續進行技術創新和研發投入，推動了半導體制造工藝的進步。ASML壟斷了EUV光刻機市場，沒有別的對手能參與競爭。

這一次，ASML更是亮相了新一代的High-NA EUV 光刻機，將對手遠遠甩在身後。根據ASML公布的數據，High-NA EUV 光刻機重150噸，要安裝這台龐然大物就需要半年時間。還要動用250名工程師，內含超過10萬個精密零部件，有些零件的調試次數數以百萬計。

在運送High-NA EUV 光刻機時，還需要250個集裝箱才能運完，可想而知這是多大的工程。越是複雜的設備儀器，往往伴隨著高昂的價格。

ASML現款EUV光刻機售價1.7億歐元，而新款的High-NA EUV 光刻機售價高達3.5億歐元，折合人民幣約27億元。關鍵是有錢也未必買得到。

阿斯麥最新光刻機恐怖之處在于無可比擬，ASML的光刻機在半導體行業中具有很高的市場份額，被認爲是世界級半導體設備制造商中的佼佼者。

其産品不僅在制造工藝上具有優勢，還在服務和技術支持方面表現出色。ASML的光刻機被廣泛應用于芯片制造過程中，爲半導體産業的發展做出了重要貢獻。

預計待High-NA EUV上市後，會讓人類的科技水平更上一層樓，讓台積電、三星、英特爾等芯片制造商能順利量産出2nm芯片。不過High-NA EUV光刻機似乎並不是ASML的終點，ASML還在展開更進一步的探索。

ASML首席技術官Brink 提出了Hyper-NA EUV的概念，這是比High-NA EUV更先進的光刻技術，NA 數值將超過 0.7，對應的也就是0.7nm芯片。ASML預計在2030年實現該技術突破，如果能成功，恐怕芯片工藝會實現質的飛躍。

當然，現階段ASML最主要的目標還是提升High-NA EUV光刻機的産能，這樣才能有足夠的資本向前邁進。

值得注意的是，High-NA EUV光刻機訂單已經有10到20個，所以ASML是不缺客戶的，就看誰能獲得頂級的High-NA EUV光刻機，角逐下一個芯片工藝時代。

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