EUV光刻機時代，聯盟裂縫漸現！

大家都知道，目前最大的光刻設備生産商，就是荷蘭 ASML公司，他們控制著整個世界的90%以上的光刻設備，以及幾乎100%的極紫外光刻設備，而唯一能夠提供這種設備的，就只有他們了。

但是，從外表來看， ASML是一個荷蘭企業，事實上，它被美國所掌控。ASML公司是美國人的意願的結果。ASML能有今日，離不開美國的扶持。ASML能走到現在，離不開美國的扶持。

說起來，極紫外光刻是美國最先研發出來的，然後被 ASML公司收購，這才有了 ASML的 EUV光刻機。

所以， ASML無疑是將美國與歐洲晶片同盟，乃至超越美國與歐洲之間的橋梁，也是連結日本與韓國，中國與台灣的半導體産業之間的橋梁，而 EUV光刻機則是不可或缺的一環。

有了 EUV光刻機，美國掌控了 ASML，等于是掌控了整個世界的半導體工業，如果不聽從美國的命令，美國就會停止 ASML的 EUV光刻機，這讓他們瞬間慫了。

英特爾（Intel Corp.)，台積電（TSMC）以及美國三星（Samsung）等公司紛紛出資入股 ASML，以此來支撐 ASML。

然而，就目前的形勢看來，美歐的芯片同盟正在逐漸破裂，美國的芯片整合龍頭企業美國美光（Amplifier）也開始退出極紫外光刻工藝。

有消息稱，美光近期公布了采用奈米制程制造 DRAM的細節，並宣稱美光將會以佳能的 NIL裝置爲第一批制造 DRAM晶片，而抛棄極紫外光刻制程。

爲何美光公司采用 NIL奈米打印裝置？由于 NIL裝置的應用，其費用將會大幅度的減少。

佳能此前曾表示， NIL裝置的能源消耗只相當于 EUV光刻機的10%，而利用 NIL裝置建造一條全産業鏈所需的費用約爲4 0%。

但是，它的缺陷在于生産率沒有極紫外光刻那麽高，並且要獲得和一部同等産能的 EUV光刻機一樣的效應，還必須使用多套 NIL設備。

SK海力士此前采用 NIL光刻機制造記憶體，若美光也采用 NIL裝置，則會逐漸抛棄 EUV，這一點已經很清楚，全世界的半導體工業都將與 EUV光刻機綁定，面臨技術難關， EUV已經不是只能靠 EUV制造，而是有了替代品。

而美國這個掌握著整個産業鏈的國家，也將迎來一場巨大的危機，一旦 EUV光刻機的壟斷被打破，整個世界的標准都會被重新定義，那麽美國在半導體領域的霸主之位，很可能就會變得岌岌可危。