ASML最先進EUV光刻機今年訂單已經被Intel包攬，其單台售價超過了25億元。據悉，ASML截至明年上半年最先進EUV設備的訂單已經由英特爾承包，而今年計劃生産的五套設備也將全部運給這家美國芯片制造商。按照消息人士的說法，由于上述EUV設備産能每年約爲5到6台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。
台積電：ASML新型光刻機太貴了5月15日消息，荷蘭光刻機制造商ASML最大的客戶之一台積電說，新型光刻機的價格太貴了。
台積電高級副總裁張曉強在荷蘭阿姆斯特丹的技術研討會上評論ASML的最新高數值孔徑極紫外光刻機（high-NA EUV）時說：“這個價格實在太高了。”他補充道：“盡管我對這款光刻機的性能十分滿意，但它的價格確實令人望而卻步。”
這款新光刻機的線寬僅爲8納米，精細度是前一代的1.7倍。每台機器的售價高達3.5億歐元（約合3.8億美元），重量相當于兩架空客A320。
ASML是全球唯一生産用于制造最高端芯片的設備的公司，其産品需求被視爲整個芯片行業健康狀況的“晴雨表”。
英特爾公司已經下單購買了這款最新的光刻機，並在去年12月底將第一台送達位于美國俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚台積電何時會開始采購。
張曉強說，台積電計劃在2026年末推出A16節點技術，這一技術無需使用ASML的最新機器，可以繼續依賴台積電現有的極紫外設備。“我認爲我們現有的EUV技術已足夠應對這一需求。”
張曉強補充道，是否使用ASML的新技術將取決于其經濟效益以及能否實現技術平衡，他拒絕評論台積電何時將開始從ASML訂購新機。
ASML最先進光刻機今年産能被英特爾買完據悉，ASML截至明年上半年最先進EUV設備的訂單已經由英特爾承包，而今年計劃生産的五套設備也將全部運給這家美國芯片制造商。
按照消息人士的說法，由于上述EUV設備産能每年約爲5到6台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。
這也導致，英特爾的競爭對手三星和 SK 海力士預計將在明年下半年才能獲得該設備。
High-NA EUV光刻機能夠在半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代産品的1/1.7。
更細的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而實現更快的處理速度和更高的存儲容量，這對于人工智能工作負載至關重要。
這台EUV已于去年年底運抵其位于俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計劃在2025年年底開始使用該系統進行生産。
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